ISBN/价格: | 978-7-122-31102-3:CNY68.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 等离子体发射光谱分析/.辛仁轩编著 |
版本项: | 第3版 |
出版发行项: | 北京:,化学工业出版社:,2018 |
载体形态项: | 536页:;+图:;+21cm |
提要文摘: | 《等离子体发射光谱分析》(第三版)系统介绍了等离子体发射光谱(ICP)分析基本原理、仪器性能和在各领域的实际应用,主要内容包括:概述、ICP光源的物理化学特性、ICP光谱仪器、光谱分析原理、ICP光谱分析的应用、ICP光谱分析中的样品处理、端视ICP光谱技术、专用进样装置与技术、有机化合物的ICP光谱分析、ICP光谱仪器技术的现状与发展、微波等离子体光谱技术及应用、电弧光源和火花光源光谱分析等。 |
并列题名: | Plasma atomic emission spectormetry eng |
题名主题: | 等离子体 发射光谱分析 |
中图分类: | O657.31 |
个人名称等同: | 辛仁轩 编著 |
记录来源: | CN 上海新华 20180727 |